メーカーリンテック
リンテック
株式会社リンテックは30年以上に亘り、日本の半導体業界と共に成長を続ける流体制御機器メーカです。今後も、流体制御専用メーカとして世界中の最先端技術に貢献し続けます。
【リンテックの技術】
ガスマスフローコントローラ／液体マスフローコントローラ／高精度液体気化供給／小型熱交換器
【活躍する業界】
半導体製造装置（CVD、ALD、露光、アッシング、洗浄、ボンディング）／理化学機器（分析装置、試験装置）／一般工業（PVD、表面コーティング、プラズマ発生装置、溶接）／医療、食品（高温蒸気減菌が必要な流体流量部分）
ガスマスフローコントローラ
リンテックのマスフローコントローラは半導体製造技術の様々な要望に応えてきました。高精度の流量制御、液化ガスや高温の流量制御、微小流量制御など確かな技術と実績で流体制御専門メーカとして半導体業界のみならず、化学分析、医療を支えます。
- 独自の流量センサにより、長寿命
- 豊富なオプションで様々な流量制御条件で使用可能
- 直接触れない流量センサー構造とメタルシールで、特殊ガスの流量制御が可能
液体マスフローコントローラ
リンテックの液体マスフロー（質量流量制御）は、半導体業界でTROS等の液体気化供給が求められ、世界に先駆けて開発した液体流量制御のパイオニアです。
小型ガス加熱器
流体を瞬時に加熱する高効率の小型加熱制御器HXシリーズ
様々な流体加熱
SUS316L製の加熱ブロックにより、ヒータと流体が直接接触しない為、SUS316Lを腐食しない流体の瞬時加熱が可能。
確実なガス加熱
配管内を流れる気体流体は、温めにくく、冷めやすい特性を持っています。
一般的に、配管内の流体加熱は配管の外側からテープヒータで加熱しるが、外側からの加熱では中心まで熱が伝わりにくくなります。 流体内部まで瞬時にガス加熱可能な熱交換器（HX）であれば確実な流体加熱が可能です。
マスフローコントローラ後段のガス加熱
半導体製造工程では、ガスを加熱するだけでなく流量制御されたガスを加熱する必要があります。その為、ガス加熱器の一次側にマスフローコントローラで流量制御する為、カス加熱器（二次側）の低圧損が必要となります。マスフローコントローラメーカ（リンテック）のガス加熱器（HX）は低圧損構造です。
